氧化铟靶材In2O3靶材磁控溅射靶材

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氧化铟靶材In2O3靶材磁控溅射靶材
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北京京迈研材料科技有限公司
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张英
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科研实验专用氧化铟靶材In2O3靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

氧化铟(In2O3)为白色或淡黄色无定型粉末,加热转变为红褐色;是一种新的n型透明半导体功能材料,具有较宽的禁带宽度、较小的电阻率和较高的催化活性,在光电领域、气体传感器、催化剂方面得到了广泛应用。而氧化铟颗粒尺寸达纳米级别时除具有以上功能外,还具备了纳米材料的表面效应、量子尺寸效应、小尺寸效应和宏观量子隧道效应等。电阻式触摸屏中经常使用的原材料,主要用于荧光屏、玻璃、陶瓷、化学试剂等。

产品参数

中文名 氧化铟        分子式 In2O3    熔点 2000℃
分子量 277.63400  沸点 850℃        密度 7.179g/ml%

纯度 99.99%

支持合金靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库



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